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NI PXI矢量網絡分析儀,幫助半導體和移動設備制造商降低測試成本

2012-12-04

2012年12月- 美國國家儀器公司(National Instruments, 簡稱NI)近日發布了NI NI PXIe-5632 VNA,它經進一步優化,可幫助工程師滿足日益復雜的射頻測試要求,而其成本、尺寸和使用所需時間僅是傳統堆疊式解決方案的極小一部分。 新的PXIe VNA基于創新型的雙源架構,頻率范圍為300 kHz至8.5 GHz,擁有獨立調整的源代碼和源接入循環,可適用于眾多不同的測量應用

 

“NI在射頻和微波儀器上持續大力投入,將PXI的應用領域擴大至高端應用。”NI射頻研究和開發副總裁Jin Bains表示,“NI PXIe-5632矢量網絡分析儀功能豐富,可顯著降低網絡測量成本,尤其是針對那些需要高度精確、快速和小封裝測量的大批量自動化測試的應用。”

 

產品特征

·         雙端口,3槽PXI Express矢量網絡分析儀,頻率范圍為300 kHz至8.5 GHz 。

·         功率范圍較寬,為-30dBm到+15 dBm,調節步長為0.01dB,用于測量有源設備的壓縮和S-參數。 

·         帶有源接入循環的雙源架構,可實現脈沖S參數測量和擴展源功率范圍。

·         頻偏功能使用獨立調整的源代碼,實現對頻率轉換器件和熱S-參數的測量。

·         通過NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行業領先的編程接口,可簡化編程并加快測試開發速度,同時保證射頻測量質量。

欲知更多,請訪問http://www.ni.com/vna/zhs/

 

關于NI

自1976年以來,美國國家儀器,簡稱NI(www.ni.com)一直致力于為工程師和科學家提供各種工具來提高效率、加速創新和探索。NI的圖形化系統設計方法為工程界提供了集成式的軟硬件平臺,有助于加速測量和控制系統的開發。長期以來,NI一直期望并努力通過自身的技術來改善社會的發展,確保客戶、員工、供應商及股東獲得成功。

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