據每日經濟新聞報道，世界光刻機巨頭ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產EUV光刻機的企業，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV光刻機。據了解，該產品可生產7nm及以上制程芯片。
光刻機(Mask Aligner) 又名掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
21ic家了解到，作為全球芯片作為全球芯片光刻技術的領導者，ASML(阿斯麥)以“光刻未來，攜手同行”為主題亮相第三屆進博會技術裝備展區。
在此次展會上，ASML除了展示了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術，讓邊緣定位精度不斷提高。同時也讓現場觀眾近距離接觸光刻機模型，同時，通過光刻小游戲，讓大家更近距離體驗光刻世界的奇妙，在趣味中體驗“光的掌門人”的日常工作。
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