12月24日，日本大型半導體制造設(shè)備廠商東京電子宣布，將于2021年1月發(fā)售清洗機“CELLESTA SCD”，該產(chǎn)品帶干燥功能，可提高最尖端半導體的成品率。通過增加使用“超臨界流體”(基本沒有表面張力)的干燥工序，防止半導體上的微細結(jié)構(gòu)被破壞。這款清洗機將用于“微細化”和“多層化”的最尖端半導體制造，“微細化”是縮小電路線寬，“多層化”是在高度方向上層疊電路。
據(jù)《日本經(jīng)濟新聞》網(wǎng)站12月18日報道，新產(chǎn)品在東京電子的枚葉式清洗機CELLESTA系列中配備了超臨界干燥專用反應室，將用于制造結(jié)構(gòu)不斷微細化、復雜化的邏輯半導體及個人電腦等使用的半導體存儲器DRAM。
報道稱，通過使用超臨界流體，可以降低干燥時微細圖案結(jié)構(gòu)被液體表面張力破壞的風險。新產(chǎn)品在干燥工序中以超臨界流體代替酒精作為清洗液。
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