本文來自方正證券研究所2022年1月24日發(fā)布的報(bào)告《中微公司（688012）：新簽訂單大幅增長，盈利能力顯著提升》，欲了解具體內(nèi)容，請(qǐng)閱讀報(bào)告原文，陳杭S1220519110008  

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CPU l 面板 l RF l CMOS l FPGA l 光刻機(jī) l EDA

封測(cè) l OLED l LCD l 設(shè)備 l 材料 l IP l 功率 l SiCGaN l 第三代 l 汽車半導(dǎo)體 l 濾波器 l 模擬 l 射頻 基帶 l 大硅片 l PA l MOSFET l 光刻膠 l RISC－VIGBT l NOR l Mini－LED l 代工 l 偏光片 l ODM華為 l 特斯拉 l 小米 l 刻蝕機(jī) l MLCC l 電源管理 高通 l 被動(dòng)元器件 l CREE l 三星 l MCU l 臺(tái)積電DRAM l AIoT l MLCC l 儲(chǔ)能 l 鈉離子 l 電子氣體北方華創(chuàng) l 激光雷達(dá) l SoC l 京東方 l 三安光電

事件：1月22日，公司發(fā)布2021年度業(yè)績預(yù)告，預(yù)計(jì)全年?duì)I收31．08億元，歸母凈利潤區(qū)間9．50－10．30億元。  全年?duì)I收31．08億元，符合市場(chǎng)預(yù)期。受益于半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)發(fā)展及公司產(chǎn)品競爭優(yōu)勢(shì)，公司預(yù)計(jì)2021年?duì)I業(yè)收入為31．08億元，較2020年增加約8．35億元，同比增加37％；對(duì)應(yīng)21Q4營收10．35億元，與2020年同期7．97億元同比增長30％，環(huán)比增長41％。  

全年歸母凈利潤中位9．90億元，盈利能力顯著提升。公司預(yù)計(jì)2021年全年實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤9．50－10．30億元，同比增長93 ％－109％，相較營收實(shí)現(xiàn)更大幅度增長，盈利能力大幅提升。

全年歸母凈利潤中位值9．90億元，對(duì)應(yīng)21Q4歸母凈利潤中位4．48億元，與20Q4歸母凈利潤2．15億元同比增長108％。公司預(yù)計(jì)2021年度實(shí)現(xiàn)扣非后歸母凈利潤為2．80億元到 3．30億元，與上年同期（法定披露數(shù)據(jù)）相比，將增加2．57億元－3．07億元，同比增加1101％－1315％，盈利能力顯著提升。 

規(guī)模效應(yīng)初步形成，毛利率水平明顯上升。盈利能力的增長除受益于營收增長外，還受益于公司綜合毛利率的提升。2021公司毛利為13．36億元，較2020年增加約4．80億元，同比增加 56％，綜合毛利率預(yù)計(jì)達(dá)到42．99％，與去年同期37．67％相比有明顯提升。其中刻蝕設(shè)備與MOCVD設(shè)備的毛利率都有明顯增長：2021年刻蝕設(shè)備收入為20．04億元，較2020年增長約55％，毛利率達(dá)到44．40％，MOCVD設(shè)備毛利率更是從去年同期的18．70％大幅增長至33．10％。 

產(chǎn)品競爭力凸顯，新簽訂單金額漲勢(shì)迅猛。公司2021年新簽訂單金額為41．30億元，較2020年增加約19．60億元，同比增長約91％。

保持高強(qiáng)度研發(fā)投入，塑造差異化競爭力。2021年公司在刻蝕設(shè)備和MOCVD設(shè)備研發(fā)上投入巨大：刻蝕研發(fā)方面，滿足5nm以下邏輯芯片、1X納米DRAM芯片和128層以上3DNAND芯片等刻蝕需求的ICP設(shè)備開發(fā)正穩(wěn)步推進(jìn)中；MOCVD方面，用于Micro－LED應(yīng)用、硅基GaN功率器件生產(chǎn)等場(chǎng)景的MOCVD設(shè)備也正在開發(fā)中。

盈利預(yù)測(cè)：我們預(yù)計(jì)公司2021－2023年?duì)I業(yè)收入31．1／44．0／59．0億元，歸母凈利潤9．9／9．8／10．0億元，給予“推薦”評(píng)級(jí)。

風(fēng)險(xiǎn)提示：1）行業(yè)競爭加劇風(fēng)險(xiǎn)；2）半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)研發(fā)風(fēng)險(xiǎn)；3）下游行業(yè)景氣度不及預(yù)期風(fēng)險(xiǎn)。