據(jù)路透社報(bào)道，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）的首席執(zhí)行官彼得·維尼克于1月19日表示，截至目前該公司仍未獲得向中國出口用于制造芯片的最新光刻機(jī)的許可。

　　阿斯麥?zhǔn)枪饪滔到y(tǒng)的主要制造商，光刻系統(tǒng)主要用于制造芯片。據(jù)此前報(bào)道，在美國政府的壓力下，荷蘭政府拒絕授予阿斯麥出口這些機(jī)器的許可，理由是這些機(jī)器被認(rèn)為是具有軍事用途的“兩用”商品。

　　據(jù)此前報(bào)道，在2020年三季度財(cái)報(bào)發(fā)布后，阿斯麥的執(zhí)行副總裁和CFO羅杰·達(dá)森（Roger Dassen）接受采訪稱，如果阿斯麥從荷蘭向中國客戶銷售DUV（深紫外線）光刻系統(tǒng)，是不需要出口許可證的。但如果向中國客戶直接出口涉及美國方面的零部件及系統(tǒng)，按照美國要求，就必須獲得出口許可。這意味著，比DUV更先進(jìn)的EUV（極深紫外線）光刻機(jī)的確不能直接賣給中國。

　　阿斯麥計(jì)劃2022年將其生產(chǎn)能力提高到55臺EUV光刻設(shè)備，到2023年達(dá)到每年超過60臺。相比之下，該公司2020年生產(chǎn)了35臺EUV光刻機(jī)。

　　光刻是芯片制造的核心環(huán)節(jié)，也是研發(fā)難度最大的半導(dǎo)體設(shè)備。目前，阿斯麥壟斷著全球最頂尖的光刻機(jī)市場，該公司也因此被美國視為圍堵中國大陸芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展的“政治棋子”。阿斯麥（ASML）CEO溫彼得（Peter Wennink）在做出上述表述的同時(shí)還透露，阿斯麥尚未獲得向中國大陸出口最先進(jìn)光刻機(jī)的許可，但一些生產(chǎn)成熟制程的光刻機(jī)出口并不受限制。

　　從出貨地來看，中國臺灣是阿斯麥的最大市場，四季度有51%的光刻系統(tǒng)發(fā)往當(dāng)?shù)兀急拳h(huán)比提升5個(gè)百分點(diǎn)；韓國是該公司第二大市場，同期有27%的光刻系統(tǒng)發(fā)往當(dāng)?shù)兀急拳h(huán)比下降6個(gè)百分點(diǎn)；中國大陸是阿斯麥第三大市場，四季度有22%的光刻系統(tǒng)向當(dāng)?shù)爻鲐洠急忍嵘?2個(gè)百分點(diǎn)。2021年三季度，美國和日本分別在阿斯麥出貨中占比10%和1%，但四季度占比均意外降為0，具體原因尚不清楚。

　　阿斯麥光刻機(jī)出貨信息

　　過去幾年，阿斯麥一直在研發(fā)高數(shù)值孔徑（0.55 NA）EUV光刻機(jī)。這種EUV光刻機(jī)采用最新的光學(xué)設(shè)計(jì)，具有更高的分辨率（由13nm升級到8nm），可以使芯片面積縮小1.7倍，晶體管密度增加2.9倍。與目前的0.33 NA EUV光刻機(jī)相比，0.55 NA光刻機(jī)可以顯著提高良率、降低成本和縮短生產(chǎn)周期。當(dāng)然，0.55 NA光刻機(jī)的價(jià)格也相當(dāng)昂貴，每臺售價(jià)約為3億美元（約合人民幣19億元），比0.33 NA光刻機(jī)售價(jià)高出一倍。

　　目前，臺積電等生產(chǎn)7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻機(jī)，而第一代0.55 NA光刻機(jī)TWINSCAN EXE：5000還在研發(fā)過程中，預(yù)計(jì)2023年上市。早在2018年，英特爾就率先向阿斯麥下單第一代0.55 NA EUV光刻機(jī)，該公司也有望成為首個(gè)高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)的使用者，并將其用于3nm及以下制程。

　　從2018年開始，阿斯麥就試圖向中國大陸銷售EUV光刻機(jī)，希望進(jìn)一步進(jìn)入中國大陸市場，但荷蘭政府一直未批準(zhǔn)其出口許可申請。在美國的持續(xù)施壓之下，這一請求已被荷蘭官員擱置。溫寧克在財(cái)報(bào)發(fā)布當(dāng)天表示，他擔(dān)心進(jìn)一步的出口限制。“我對任何政府采取的出口管制措施都感到擔(dān)憂。我們嚴(yán)重缺乏成熟的半導(dǎo)體技術(shù)，我們需要成熟的制造能力。”