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?進博會上的ASML,我們該用怎樣的姿勢看待?

2020-11-11
來源:半導體行業觀察
關鍵詞: ASML

  近日,進博會如期在上海國家會展中心舉行,在設備館中,要不是ASML這名字大伙最近如雷貫耳,那跟周圍的輪船、飛機、潛水艇比起來,ASML的展臺一點都不顯眼。但論售價,展館里那臺1.4億元的直升機,可能都要遜色不少。

  ASML展臺不缺人氣,一茬接一茬的人前來參觀咨詢,現場ASML的相關人員也在不斷的做著科普,有關光刻機的科普。人紅是非多,ASML展臺明明近在眼前,卻出現了兩種身份,一個是在規則下努力服務中國市場的ASML,一個是被情緒點爆的ASML。也因此產生了一些非理性誤讀。

  7nm DUV這件事

  首先是關于7nm DUV這件事,在ASML展區中,現場ASML工作人員對TWINSCAN NXT:1980Di的DUV光刻機原理進行了視頻演示,據稱,其可以用過多次曝光的手段制造7nm工藝。不過,一些關于ASML進博會報道的文章,標題中直接使用“7nm DUV”,卻是一個錯誤的說法,因為并不存在7nm DUV或者7nm EUV。

  DUV是deep ultra violet (深紫外光)的縮寫,DUV光刻機使用的光源都是193nm波長的ArF excimer laser,EUV是極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithography),EUV光刻機光源則是13.3nm的laser pulsed tin plasma。而人眼可見光的波長為380nm到880nm。

  DUV是一種光源,光刻機是一種投影曝光系統。在半導體制作過程中,光刻機會投射光束,穿過印著圖案的掩模及光學鏡片,將線路圖曝光在帶有光刻膠的硅晶圓上;通過光刻膠與光的反應來形成溝槽,然后再進行蝕刻、沉積、摻雜,架構出不同材質的線路。

  其中掩膜版上面會有很多的布線,形成溝槽以后在里面會布很多的二極管、三極管等,來形成不同的功能。單位面積上布的線越多,能夠實現的功能就越多,效能也越高,耗能越少。

  DUV光刻機,分為干分式與液浸式兩種。其中,液浸式于 ASML 手中誕生,其波長雖然有 193nm,但等效為134nm,經過多重曝光后,液浸式光刻機也能夠達到7nm工藝。但是,每多一次曝光都會使得制造成本大大提升,而且良品率也難以控制。

  這其中,光刻機的分辨率表示光刻機能清晰投影最小圖像的能力,是光刻機最重要的技術指標之一,決定了光刻機能夠被應用于的工藝節點水平。最重要的公式就是ASML在進博會上放在最顯眼位置的公式,如下圖。

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  攝于進博會

  λ代表光源波長;k1是工藝相關參數;NA被稱作數值孔徑,是光學鏡頭的一個重要指標。

  據現場ASML介紹,本次所展示的1980Di型號DUV光刻機是目前全球DUV的主力機型,每小時能出275片wafer,已經被客戶使用的下一代DUV將會有更高效能。

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  圖源:ASML官網

  關于媒體報道較多的DUV光刻機制造7nm工藝這件事,拿臺積電舉例,目前為止臺積電的7nm制程工藝分為第一代7nm工藝(N7)、第二代7nm工藝(N7P),以及7nm EUV(N7+)。其中N7和N7P使用的是DUV光刻,但為了用DUV制作7nm工藝,它還使用了沉浸式光刻、多重曝光等技術。而N7+則直接使用了EUV光刻,2017年,臺積電開始使用EUV進行7nm制程開發,并于2019年開始小規模量產,2020年大規模量產,主要產品包括智能手機處理器、HPC和汽車芯片。

  N7制程方面,截至2019年底,總計有超過100個客戶產品投片,涵蓋相當廣泛的應用,包含移動裝置、游戲機、人工智能、中央處理器、圖形處理器,以及網絡連接裝置等。此外,N7+版本于2019年量產,協助客戶產品大量進入市場。

  以上這三種7nm工藝雖然在性能、功耗等方面表現優異,但成本都十分高昂。

  ASML的中國市場

  對于中國大陸市場來說,ASML就立刻變成了一家特別的公司,因為EUV未獲得美國許可證的問題,而處于風口浪尖之上。

  在此前的2020年Q3季度財報會議的視頻采訪中,ASML公司的CFO Roger Dassen就表示,ASML了解美國當局目前的規章制度及其解釋,當然也知道這些與特定的中國客戶密切相關,但如果廣泛的來理解其規章制度對ASML的總體含義(對于特定的中國客戶),意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統,且無需出口許可證。

  也正如ASML在進博會上所說,對向中國出口集成電路光刻機持開放態度,對全球客戶均一視同仁,在法律法規框架下,都將全力支持。

  據筆者現場了解,ASML的DUV光刻機在中國大陸DUV市場上有著絕對的主導權,放眼整個中國制造業,當下階段DUV對中國大陸市場有著非常重要的意義。據了解,位于中國臺灣的臺積電,集聚1000名技術工程師,花費10年左右的時間,才完成對EUV光刻機的駕馭。中國大陸與其差距仍非常巨大,需從基礎功打磨起。

  關于中國大陸市場,幾個月前在廣州舉行的CICD 2020上,ASM全球副總裁、中國區總裁沈波就表示,在1989年,ASML的光刻機就來到了中國,2000時,在中國成立了第一家辦公室。在過去的20年中,ASML在中國迅速發展。目前ASML在中國已有700多臺光刻機的裝機,幾乎所有主要芯片生產廠商都有ASML的服務。ASML在中國大陸12個城市有辦事處或分支機構,2020年中國區有超過1100人的團隊,為行業新增和培育了大量光刻技術人才。

  “中國將成為全球成熟制程芯片最大市場,在成熟制程芯片的智造領域,ASML提供差異化的解決方案,共同推進行業創新和增長。”

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  攝于進博會

  不同于半導體垂直行業展會,進博會的涉獵極其廣泛,ASML這家近幾年快速變成網紅的企業,身處其中容易招來許多偏見。ASML展臺上,觀看并聽取現場工作人員科普的觀眾絡繹不絕,充滿熱情的觀眾似乎想弄清楚ASML到底是怎樣的存在。這家伴隨并推動全球半導體發展的公司,也正在努力消除人們心中某些不必要的隔閡。

  


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