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新一代EUV光刻機單臺售價30億元! 三星盤算搶先臺積電獲得

2020-12-02
來源:EETOP

  三星電子副會長李在镕(Lee Jae-yong)今年10月出訪歐洲、拜會艾司摩爾(ASML)執行長Peter Wennink等人后,傳出Wennink也禮尚往來,于上周訪問三星,希望能促成極紫外光(EUV)光刻機的合作案。

  Business Korea 12月1日報道,Wennink 等ASML 高層上周訪問了三星半導體廠,討論EUV 光刻設備的供給與發展合作案。業界內部人士相信,三星要求ASML 供應更多EUV 光刻設備,雙方并討論開發新一代EUV 設備的合作事宜。

  身為全球唯一一家EUV 設備制造商的ASML,目前對臺積電的供貨量高于三星。三星希望跟ASML 合組科技聯盟,取得更多新一代EUV 光刻設備。ASML 也有跟三星投資合作的必要,因為新一代EUV 設備需要大量研發資金。

  三星希望投資高數值孔徑(high-numerical aperture,High-Na)EUV 設備的開發案,這種設備可改善半導體微制程所需的電路解析度,一臺設備要價4.5億美元(接近30億元人民幣),是目前款式的2-3 倍。ASML 計劃2023 年年中推出設備原型,三星希望趕在臺積電之前取得設備,爭取技術領先。

  不過,三星一名內部人士透露,雙方并未在會議上達成投資決定。ASML 高層只是應李在镕10 月份的邀請前來三星訪問。ASML 高層也拜訪SK 海力士(SK Hynix)總裁李錫熙(Lee Seok-hee),消息顯示他們討論了要如何擴大供應EUV 設備、促進合作。

 

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