相信在我把思銳智能稱之為“國產”半導體設備企業的時候，也許有人會提出反對意見說——這家公司的技術不是源自于芬蘭倍耐克（BENEQ）嗎？為什么稱之為國產公司？但正如該公司的副總經理陳祥龍所說，這正是核心所在。

　　據陳祥龍所說，從思銳智能在2018年收購BENEQ開始，公司就一直在推動雙方的合作整合，當中包括雙方人員的互通交流、中國的項目由中芬團隊協同研發。“正是因為這樣的人員和技術的交流，我們公司的ALD（Atomic Layer Deposition：原子層沉積）設備才能夠那么快地推進國內客戶的產線”，陳祥龍表示。他同時也強調，公司在技術和專利整合方面也在順利推進中。

　　正是基于以上考慮，筆者把這家近年來崛起的ALD設備廠商稱之為本土半導體設備供應商。

　　在“進入”中國三年之后，這家設備新星找到了更廣闊的市場空間。

　　ALD設備領域的王者

　　據了解，在剛發展早期，ALD是被用于生產納米結構的絕緣體（Al2O3/TiO2）和薄膜電致發光顯示器（TFEL）的硫化鋅（ZnS）發光層。但因為其擁有優異的保形性和均勻性、高的臺階覆蓋率、速率可控性、低溫沉積、薄膜純度以及絕佳覆蓋率等固有優點，ALD逐漸“出圈”，從薄膜顯示器走向了半導體、電池、光學、生物醫學和航空航天領域等眾多領域。

　　被思銳智能收購的芬蘭BENEQ正是該領域一個資深玩家。

　　據陳祥龍介紹，雖然是一家本地化的高端ALD設備公司，但思銳智能卻是一家非常國際化和全球化的企業。從整體收入結構看來，歐洲、美國、中國大陸或者是整個亞太地區的營收各占總收入的1/3。公司合作的客戶也遍布全球40多個國家和地區，使用公司設備的客戶也達到400-500家。

　　從創新能力角度看，思銳智能目前大概有200多人，其中博士比例占了將近10%，碩士以上占50%。公司現在在全球ALD布局的專利有大約300個，其中95% 以上是發明專利，而且主要布局都在歐洲、美國、日本或國內，以及中國臺灣地區。“無論是從我們過去服務的客戶情況，還是從我們專利的情況，以及我們團隊創新的能力來看，我們都是一個有競爭力的公司。”陳祥龍強調。

　　從整個行業的態勢來講，在功率化合物半導體領域，思銳智能無論是在基材的出貨量，還是合作客戶的質量上看，公司的表現都不俗。在這個領域，思銳智能也必然是世界上第一梯隊的供應商。

　　“Beneq是最早做ALD的公司之一，公司在這個方方面面有著非常深的技術積累。在將近40年的時間發展中，公司積累了非常豐富的工藝包。這就讓公司在提供設備之余，還能給客戶提供完整的鍍膜解決方案。”思銳智能半導體ALD銷售總監高智補充說。

　　據了解，得益于過往的積累，現在的思銳智能提供開發服務、ALD設備和鍍膜服務這三方面的服務：

　　在開發服務方面，思銳智能可以提供一系列整套的研發服務解決方案，幫助客戶實現一些首批樣品批量生產，不管是樣品，包括薄膜材料研究，還包括和一些客戶在共同的做研究；來到ALD設備方面，思銳智能則能提供面向不同領域和場景的的設備；依賴于70臺ALD鍍膜設備，思銳智能可以為客戶可提供定制化ALD薄膜的生產外包服務，小規模試生產或完全外包生產自由選擇，為沒有初期資本投資的公司提供最佳的ALD鍍膜服務。

　　向更多市場擴張

　　正因為思銳智能的ALD設備擁有如此巨大的優勢和潛力，因此在收購Beneq之后，公司進一步將ALD產品劃分為半導體和非半導體業務線。

　　其中非半導體業務線包括抗腐蝕鍍膜器件、保形光學鍍膜、OLED封裝、鋰電池保護層等等，既聚焦于研發設備，也聚焦于工業級應用；半導體業務則重點發展其超越摩爾市場的應用，當中包括功率器件、RF濾波器器件以及化合物半導體、慣性流體3D MEMS和圖像傳感器，Micro-LED以及芯片級鍍膜封裝。

　　從過去幾年的發展看來，我們也看到思銳智能正在發力，將ALD設備向超越摩爾市場的多個領域擴張。例如在當前火熱的激光雷達領域，ALD就能發揮關鍵的作用。“激光雷達的核心器件VCSEL從上至下，從抗反射層、表面鈍化層，再到基底的熱吸收層，都全部會用到ALD相關的工藝。”高智舉例說。

　　能走向那么多市場，除了夯實的技術基礎外，豐富的產品線才是公司開辟疆土的“先鋒”。

　　高智告訴記者，在面向光電類應用，思銳智能有兩個產品，其中一個是面向光學前端模組的（偏光學模組）思銳智能的P系列和面向光學鍍膜的C2R設備，其中后者也就是他們所說的空間旋轉式的等離子增強型ALD。這是一款專門面向光學光電鍍膜的設備，其鍍膜速度可以幾乎達到每小時幾微米的厚度，可以媲美整個PVD；

　　還有一個就是面向光學后端半導體器件的Transform設備。在這個設備中，思銳智能為其率先引入了一個叫做“預加熱”的技術。因為有了這個模塊的加入，能夠極大程度地縮短ALD的升溫時間。據了解，以前ALD設備加熱需要幾個小時，但在新技術支持下，可以在30秒內完成一個到200度的加熱，這樣就可以進而提升其產能。

　　同時，不同于其他ALD設備只能在“熱法”和“等離子增強型”方案中二選一，思銳智能的產品在一個腔體里面能夠做到既可以執行等離子增強型，又可以做到熱法工藝，同時還不僅只局限于單片（可以做batch 25片的工藝）。那就意味著將帶來巨大的產能提升。

　　得益于Transform平臺的優勢，思銳智能還在推動ALD設備向MEMS和CMOS圖像傳感器市場擴張。特別是在CIS市場，據思銳智能透露，公司產品在這個領域取得了突破性進展。除了上述市場，ALD設備還在濾波器、Micro-OLED、Micro-LED和光電子等多個應用市場尋找發力點，他們同時還也推出了包括高K介電質、表面鈍化、成核層、化學阻層、防潮層和抗反射鍍膜等ALD解決方案。

　　在思銳智能看來，公司的ALD設備能夠繼續向更多市場進軍。且無需花費太多心思，這一方面得益于公司產品本身在技術上的優勢，同時還得歸功于公司在設計產品時對兼容性的考慮。

　　“我們設備的設計是8英寸的，可是我們向上兼容3英寸、4英寸和6英寸。且在兼容不同尺寸的時候，腔體并不需要做硬件的變化，這就給我們的用戶提供了基于尺寸的多樣性。”高智說。至于在面向12英寸的應用，按照高智的說法，公司也會在現有的設備上做升級，這也將是一個最經濟的選擇。

　　不會取代傳統設備

　　從上面C2R的應用可以看出，ALD能夠打破傳統的“沉積速度非常慢的工藝”的舊印象，向多個領域的擴展也證明了ALD設備的通用性。這就引發人們對其未來能否取代傳統工藝設備的思考。

　　針對這個問題，陳祥龍回應道，在半導體里，大家一定是一個互補的存在。例如在平面光學，可能還是以平面這種鍍膜就可以；但如果進入到微納光學，因為擁有更復雜的光學結構，就有消除鬼影等需求，這時候ALD就會是個更好的選擇。

　　“因為擁有更多不同的應用，我認為CVD、PVD跟ALD都是共存的，而且已經共存了好多年，我們相信在這個領域里也是一樣的。但我們可以肯定的是，無論是在半導體還是泛半導體、光學領域里，隨著器件越來越輕量化、小型化、智能化，ALD的市場一定是越來越大。”陳祥龍強調。

　　“我們一直致力于成為一家全球范圍內的高端ALD設備供應商”，陳祥龍最后說。