0 引言

    光刻技術(shù)最早應用于半導體分立器件和集成電路中的微細加工。光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)的基礎；在發(fā)光二極管、平板顯示、先進封裝、磁頭及精密傳感器等泛半導體行業(yè)中有著廣泛的應用。隨著各行業(yè)技術(shù)的不斷提升，作為微電子技術(shù)工藝基礎的微光刻技術(shù)^[1-3]在半導體器件和集成電路研制開發(fā)中的特征尺寸越來越小，加工尺寸逐步進入深亞微米、百納米以至納米級。微電子技術(shù)的核心是集成電路的制造技術(shù)，而集成電路的制造技術(shù)的第一步就是集成電路的電路設計技術(shù)。因此微光刻技術(shù)發(fā)展同樣也離不開電子設計自動化技術(shù)^[4-7]的進步。Tanner Research Inc公司開發(fā)的L-edit軟件_[8-10]提供了用戶編程接口UPI供用戶擴展其功能，同時提供了大量的UPI函數(shù)擴展命令集，極大地增加了L-Edit軟件的版圖處理能力和靈活性。UPI的核心是宏界面，宏可以是用C++文件，或編譯過的動態(tài)鏈接庫。這樣可以方便地和集成電路掩模版版圖編輯工具軟件L-edit連接，彌補現(xiàn)有的掩模版版圖處理體系^[11-14]中人工繪制版圖這個薄弱環(huán)節(jié)，極大地提高了目前集成電路版圖設計工具軟件^[15]繪圖效率與準確度，使其更能適用于微電子、微光學、發(fā)光二極管等微光刻領(lǐng)域的高集成度復雜圖形設計。本文采用C++對L-edit軟件進行二次開發(fā)，實現(xiàn)微光刻領(lǐng)域的高集成度復雜版圖的快速處理功能。

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作者信息：

黃翔宇，馬協(xié)力，金焱驊

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