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全球首次極紫外光刻!三星7nm提前半年完工

2018-04-08
關鍵詞: 三星 臺積電 7nm 5nm

  據報道,三星已經完成了7nm新工藝的研發(fā),而且比預期進度提早了半年,這為三星與臺積電爭搶高通驍龍855代工訂單奠定了基礎。

  自從16/14nm節(jié)點開始,三星和臺積電的工藝之爭愈發(fā)激烈,都不斷砸下巨資加速推進新工藝。

  眼下,雙方的10nm工藝都已經成功商用,其中臺積電拿下了華為麒麟970、蘋果A11,三星則搞定了高通驍龍845。

  7nm工藝上,臺積電因為沿用成熟技術進展順理,今年第一季度已投產,將代工華為麒麟980,還有消息稱一并收獲了蘋果A12、高通驍龍855。

  三星因為在7nm上投入了技術更先進、但難度極高的EUV極紫外光刻,而且是全球第一個,原本預計要到今年下半年才能完成,沒想到提前了足足半年。

  受此鼓舞,高通已經將新的芯片樣品送交三星進行測試,不知道是不是驍龍855。

  在此之前,三星已經宣布7nm工藝已經贏得了高通5G芯片的訂單,只要進展順利再獲得驍龍855也是水到渠成。

  消息人士稱,三星7nm研發(fā)團隊已經完成任務,全面轉向了5nm工藝的研發(fā),而兩種工藝共享設計數據庫(DB),下一步的難度會大大降低。

  而臺積電計劃在7nm升級版上試用EUV極紫外光刻,時間安排在明年,全面應用EUV得到2020年的5nm,這下要落后三星一大截了。

  Intel方面的10nm也還沒有出來,已經遲到了好幾年,7nm更得最快也要三四年之后,EUV應用則一直沒有時間表。

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