4 月 30 日消息，根據(jù)韓媒 TheElec 報(bào)道，三星正在考慮在其下一代 DRAM 極紫外（EUV）光刻工藝中應(yīng)用金屬氧化物抗蝕劑（MOR）。
MOR 被業(yè)內(nèi)認(rèn)為是下一代光刻膠（PR），會接棒目前先進(jìn)芯片光刻中的化學(xué)放大膠（CAR）。CAR 在 PR 分辨率、抗蝕刻性和線邊緣粗糙度方面已經(jīng)無法完全滿足未來光刻的需求。
三星正考慮在第 6 代 10 納米 DRAM（1c DRAM）中使用 MOR，主要在六層或七層上使用 EUV PR，相關(guān)產(chǎn)品將于今年下半年投入生產(chǎn)。
消息稱三星正計(jì)劃向多家供應(yīng)商采購 EUV MOR 光刻膠材料，除了 Inpria 之外杜邦、東進(jìn)半導(dǎo)體、三星 SDI 等都在測試開發(fā)。
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn)。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當(dāng)措施，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。